Tyhjiöhöyrytyslaite

Tyhjiöhöyrytyslaite

Tyhjiöhöyrystyksellä (PVD) on mahdollista valmistaa ohuita materiaalikalvoja. Menetelmä perustuu materiaalin höyrystämiseen lämmittämällä joko sähköisesti tai elektronisäteellä tai irrottamiseen atomeja plasman avulla (sputterointi). Höyryn atomit asettuvat prosessikammiossa olevan näytteen pinnalle muodostaen kalvon. Kalvon muodostus on anisotrooppinen, joten materiaalin kasvunopeus riippuu paljon näytteen pinnan muodosta.

 

Kurt J. Lesker LAB 18

  • Suurin näytekoko 152 mm x 152 mm
  • Kalvopaksuudet tyypillisesti alle 500 nm
  • Höyrystettäviä materiaaleja mm. Ag, Al, Au, Cr, Cu, Ni, Ti, SiO2, TiO2, MgF2

Yhteyshenkilö

Yli-insinööri Pertti Pääkkönen
pertti.paakkonen[at]uef.fi
0505056376
Itä-Suomen yliopisto, Yliopistokatu 7, 80100 Joensuu