Elektronisädekuviointilaite

Elektronisädekuviointilaite mahdollistaa mikro- ja nanometriluokan rakenteiden kuvioimisen elektronisäteelle herkkään polymeerikerrokseen. Litografisilla jatkoprosesseilla polymeerikerroksessa oleva rakenne voidaan siirtää muihin materiaaleihin, kuten piihin, kvartsiin tai metallikalvoon.

Vistec EBPG5000+ES

Gaussinen elektronisäde 50 kV tai 100 kV, pienin fokus 8 nm
Pienin piirtoresoluutio 1,25 nm, piirtotarkkuus < 30 nm (3s)
Suurin säteen poikkeama ± 205 µm (50 kV), ± 128 µm (100 kV)
Suurin piirtoala 150 mm x 150 mm
Suurin näytekoko 152 mm x 152 mm

Yhteyshenkilö

Yli-insinööri Pertti Pääkkönen
pertti.paakkonen@uef.fi
0505056376
Itä-Suomen yliopisto, Yliopistokatu 7, 80100 Joensuu