Atomikerroskasvatuslaitteisto

Atomikerroskasvatuslaitteisto

Atomikerroskasvatus (ALD, ALE) on ohuiden materiaalikalvojen kasvatusmenetelmä, jossa materiaalia valmistetaan atomikerros kerrallaan. Menetelmä soveltuu ohuiden metallioksidien, -sulfidien ja –nitridien sekä joidenkin jalometallikalvojen valmistamiseen. Menetelmän luonteesta johtuen se mahdollistaa konformaalisen pinnoituksen, eli saadun kalvon paksuus on lähes riippumaton pinnoitettavan kappaleen muodosta.

Beneq TFS-200 

  • Valmistettavat materiaalit: TiO2, Al2O3, SiO2, Ru, Ir
  • Prosessilämpötila 56 °C – 500 °C (riippuu materiaalista)
  • Suurin kalvopaksuus alle 1 µm (riippuu materiaalista)
  • Kasvatusnopeus alle 5 nm/min (riippuu materiaalista sekä kappaleen muodosta)
  • Suurin näytekoko halk. 200 mm, kork. 100 mm

Yhteyshenkilö

Yli-insinööri Pertti Pääkkönen
pertti.paakkonen[at]uef.fi
0505056376
Itä-Suomen yliopisto, Yliopistokatu 7, 80100 Joensuu