Atomikerroskasvatuslaitteisto
Atomikerroskasvatus (ALD, ALE) on ohuiden materiaalikalvojen kasvatusmenetelmä, jossa materiaalia valmistetaan atomikerros kerrallaan. Menetelmä soveltuu ohuiden metallioksidien, -sulfidien ja –nitridien sekä joidenkin jalometallikalvojen valmistamiseen. Menetelmän luonteesta johtuen se mahdollistaa konformaalisen pinnoituksen, eli saadun kalvon paksuus on lähes riippumaton pinnoitettavan kappaleen muodosta.
Beneq TFS-200
- Valmistettavat materiaalit: TiO2, Al2O3, SiO2, Ru, Ir
- Prosessilämpötila 56 °C – 500 °C (riippuu materiaalista)
- Suurin kalvopaksuus alle 1 µm (riippuu materiaalista)
- Kasvatusnopeus alle 5 nm/min (riippuu materiaalista sekä kappaleen muodosta)
- Suurin näytekoko halk. 200 mm, kork. 100 mm
Yhteyshenkilö
Yli-insinööri Pertti Pääkkönen
pertti.paakkonen[at]uef.fi
0505056376
Itä-Suomen yliopisto, Yliopistokatu 7, 80100 Joensuu